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選択資料から書架並びで前後２０冊ずつを表示します。

ポストシリコン半導体 : ナノ成膜ダイナミクスと基板・界面効果

549.8/P84

23011000014850

小:2閲B1FエリアC

パワーエレクトロニクスハンドブック / パワーエレクトロニクスハンドブック編集委員会編

549.8/P87

10502021325426

小:2閲B1FエリアC

パワーエレクトロニクスの新展開 / 大橋弘通, 木本恒暢監修

549.8/P87

10502021341510

小:2閲B1FエリアC

パワーエレクトロニクス演習 / 野中作太郎 [ほか] 著

549.8/P87

10502020768731

小:2閲B1FエリアC

最新半導体プロセス技術 : Technology & Equipment

2002

549.8/Sa22/2002

10502020718211

小:2閲B1FエリアC

薄膜作製応用ハンドブック / 酒井忠司 [ほか] 編集委員, 宮﨑照宣編集協力委員

549.8/Sa29

23011000054097

小:2閲B1FエリアC

パワーエレクトロニクス / 佐久川貴志著

549.8/Sa44

23011000056073

小:2閲B1FエリアC

電子デバイスの基礎 / 桜庭一郎, 岡本淳共著

549.8/Sa46

10502021019678

小:2閲B1FエリアC

X線反射率法入門 / 桜井健次編

549.8/Sa47

10502021242008

小:2閲B1FエリアC

3次元システムインパッケージと材料技術 / 須賀唯知監修

549.8/Sa64

23011000008575

小:2閲B1FエリアC

量子効果半導体 / 佐々木昭夫著 ; 電子情報通信学会編

549.8/Sa75

10502020704954

小:2閲B1FエリアC

パワーエレクトロニクス入門 / 佐藤義久著

549.8/Sa85

10502021093207

小:2閲B1FエリアC

高濃度イオン注入炭化シリコン非晶質層の再結晶化と不純物効果の解明 / 佐藤政孝研究代表者

549.8/Sa85

10502021230557

小:2閲B1FエリアC

図解半導体素子と電子部品 / 佐藤一郎著

549.8/Sa85

10502020551660

小:2閲B1FエリアC

溶液からの結晶成長 : 構造と形のデザイン / 佐藤清隆責任編集

549.8/Sa85

23011000010154

小:2閲B1FエリアC

酸化物薄膜・接合・超格子 : 界面物性と電子デバイス応用 / 澤彰仁著

549.8/Sa93

23011000041378

小:2閲B1FエリアC

電子通信材料工学 / 澤木宣彦著

549.8/Sa94

10502020796409

小:2閲B1FエリアC

ディジタル信号処理のキーデバイスDSPプログラミング入門 / 瀬谷啓介著

549.8/Se98

10502020554790

小:2閲B1FエリアC

多層配線技術の最新動向 : 銅配線/低誘電率膜 / 新宮原正三著

549.8/Sh62

10502020927791

小:2閲B1FエリアC

進化する有機半導体 : 有機エレクトロニクス創成へ向けた光・電子機能デバイスへの応用最前線 / ブッカーズ企画・編集

549.8/Sh64

10502021160257

小:2閲B1FエリアC

ナノエレクトロニクスと計算科学 / 白石賢二, 伊藤智徳, 影島博之共著 ; 電子情報通信学会編

549.8/Sh82

10502020982490

小:2閲B1FエリアC