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＜図書＞
ココマデ キタ イオン チュウニュウ ギジュツ : チョウ LSI プロセス ノ リードヤク
ここまできたイオン注入技術 : 超LSIプロセスのリード役 / 布施玄秀, 平尾孝編著
(K books ; 79)
| 出版者 | 東京 : 工業調査会 |
|---|---|
| 出版年 | 1991.6 |
| 巻冊次 | ISBN:4769360800 ; PRICE:1800円 
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| ISBN | 4769360800 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | 182p ; 19cm |
目次／あらすじ
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| 著者標目 | 布施, 玄秀(1951-) 編著 <フセ, ゲンシュウ> 平尾, 孝 編著 <ヒラオ, タカシ> |
|---|---|
| 分 類 | NDC8:549.8 |
| 件 名 | BSH:半導体 NDLSH:半導体 |
| 書誌ID | 1400140033 |
| NCID | BN06481370 |
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| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | 利用注記 | 予約・取寄 | 資料メモ | 仮想書架 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 小:2閲B1FエリアC |
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549.8/F96 | 23011000007021 |
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