ノムラ, シゲル
野村, 滋(1937-)
著者名典拠詳細を表示
著者の属性 | 個人 |
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一般注記 | SRC:極薄シリコン酸化膜の形成と界面評価技術, 1997.1: 奥付(野村滋;のむらしげる;室蘭工科大学電気電子工学科教授;工学博士) 工学博士(東北大学) |
生没年等 | 1937 |
コード類 | 典拠ID=5010206429 |
1 | 極薄シリコン酸化膜の形成と界面評価技術 / 野村滋, 福田永共著 東京 : リアライズ社 , 1997.1 |
著者の属性 | 個人 |
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一般注記 | SRC:極薄シリコン酸化膜の形成と界面評価技術, 1997.1: 奥付(野村滋;のむらしげる;室蘭工科大学電気電子工学科教授;工学博士) 工学博士(東北大学) |
生没年等 | 1937 |
コード類 | 典拠ID=5010206429 |
1 | 極薄シリコン酸化膜の形成と界面評価技術 / 野村滋, 福田永共著 東京 : リアライズ社 , 1997.1 |