マエダ, カズオ
前田, 和夫(1935-)

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著者の属性 個人
一般注記 アプライドマテリアルズジャパン(株)センター長 専攻:半導体プロセス技術,気相成長技術 《同名》
生没年等 1935-
コード類 典拠ID=5010095461
1 はじめての半導体プロセス / 前田和夫著 東京 : 工業調査会 , 2000.12
2 VLSIとCVD : 半導体デバイスへのCVD技術の応用 / 前田和夫著 東京 : 槇書店 , 1997.7
3 最新LSIプロセス技術 / 前田和夫著 東京 : 工業調査会 , 1983.7